Compendium des Talents: Condamnation

CondamnationCondamnation
Niveau Bulletin Promouvoir Niveau Durée Magie  Temps de recharge Puissance
1 A 10% de chance de réduire la VIT ATQ de 4 ennemis proches de 10% pendant 4s lorsque vous êtes attaqué. Temps de récupération : 2s. 4 s. 2 s. 20
2 A 10% de chance de réduire la VIT ATQ de 4 ennemis proches de 20% pendant 4s lorsque vous êtes attaqué. Temps de récupération : 2s. 4 s. 2 s. 40
3 A 10% de chance de réduire la VIT ATQ de 4 ennemis proches de 30% pendant 4s lorsque vous êtes attaqué. Temps de récupération : 2s. 4 s. 2 s. 60
4 A 15% de chance de réduire la VIT ATQ de 4 ennemis proches de 35% pendant 4s lorsque vous êtes attaqué. Temps de récupération : 2s. 4 s. 2 s. 80
5 A 20% de chance de réduire la VIT ATQ de 4 ennemis proches de 40% pendant 4s lorsque vous êtes attaqué. Temps de récupération : 2s. Rune de Talent Niv 6 - Matériel requis pour améliorer un Talent de Niv 5 au Niv 6. x 10 4 s. 2 s. 100
6 A 20% de chance de réduire la VIT ATQ de 4 ennemis proches de 50% pendant 4s lorsque vous êtes attaqué. Temps de récupération : 2s. Rune de Talent Niv 7 - Matériel requis pour améliorer un Talent de Niv 6 au Niv 7. x 10 4 s. 2 s. 120
7 A 25% de chance de réduire la VIT ATQ de 4 ennemis proches de 55% pendant 4s lorsque vous êtes attaqué. Temps de récupération : 2s. Rune de Talent Niv 8 - Matériel requis pour améliorer un Talent de Niv 7 au Niv 8. x 10 4 s. 2 s. 140
8 A 25% de chance de réduire la VIT ATQ de 4 ennemis proches de 65% pendant 4s lorsque vous êtes attaqué. Temps de récupération : 2s. Rune de Talent Niv 9 - Matériel requis pour améliorer un Talent de Niv 8 au Niv 9. x 10 4 s. 2 s. 160
9 A 30% de chance de réduire la VIT ATQ de 4 ennemis proches de 70% pendant 4s lorsque vous êtes attaqué. Temps de récupération : 2s. Rune de Talent Niv 10 - Matériel requis pour améliorer un Talent de Niv 9 au Niv 10. x 10 4 s. 2 s. 180
10 A 40% de chance de réduire la VIT ATQ de 4 ennemis proches de 80% pendant 4s lorsque vous êtes attaqué. Temps de récupération : 2s. 4 s. 2 s. 180